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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠(chǎng)家

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等離子清洗機(jī)采用的是獨(dú)特的腔體設(shè)計(jì)

       在半導(dǎo)體和LCD等產(chǎn)品的制造過(guò)程中,可以使用等離子清洗機(jī)來(lái)對(duì)表面進(jìn)行清潔,也可以使其表面得到改善,去除外表面所殘留的光刻膠、有(機(jī))污染物、溢出的環(huán)氧樹(shù)脂等,還可以使用等離子清洗機(jī)來(lái)對(duì)其表面的性能進(jìn)行活(化),增加表面的焊接以及封裝能力。除了可以應(yīng)用于生產(chǎn)制造過(guò)程中,還可以應(yīng)用于FA或者是QA實(shí)驗(yàn)室中。
  在半導(dǎo)體和LCD等產(chǎn)品的制造過(guò)程中,可以使用等離子清洗機(jī)來(lái)對(duì)表面進(jìn)行清潔,也可以使其表面得到改善,去除外表面所殘留的光刻膠、有(機(jī))污染物、溢出的環(huán)氧樹(shù)脂等,還可以使用等離子清洗機(jī)來(lái)對(duì)其表面的性能進(jìn)行活(化),增加表面的焊接以及封裝能力。除了可以應(yīng)用于生產(chǎn)制造過(guò)程中,還可以應(yīng)用于FA或者是QA實(shí)驗(yàn)室中。

等離子清洗機(jī)
  等離子清洗機(jī)采用的是獨(dú)特的腔體設(shè)計(jì),可以提供好的潔凈空間和均勻的等離子分布;其控制操作界面友好,可以進(jìn)行菜單式的操作和控制,所有的參數(shù)也都實(shí)時(shí)的顯示在設(shè)備的屏幕之上,能夠使操作者隨時(shí)根據(jù)系統(tǒng)的狀況來(lái)進(jìn)行系統(tǒng)的診斷和操作。
  等離子清洗機(jī)主要由三大部分組成:
  1. 控制單元。現(xiàn)在的等離子清洗機(jī)主要有全自動(dòng)控制、半自動(dòng)控制、PC控制、液晶觸摸屏控制四種控制單元,而控制單元主要由電源、控制系統(tǒng)、控制按鈕和操作顯示器等部分組成。
  2. 真空腔體。真空腔體就是用于清洗對(duì)象物的空間,主要有石英腔體和不銹鋼真空腔體。由于其內(nèi)部采用真空(滅)菌(防)菌以及等離子清洗法,對(duì)于腔體壓力的承受有著一定的要求,所以需要采用材質(zhì)較好的腔體進(jìn)行配置。
  3. 真空泵。等離子清洗機(jī)的主要?jiǎng)恿?lái)源就是真空泵,主要作用是將真空腔體中的空氣抽干,達(dá)到真空的環(huán)境,然后再進(jìn)行等離子清洗。真空泵主要分為干泵和油泵。干泵主要以電力為動(dòng)力源,而油泵則使用汽油或柴油為動(dòng)力源。


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