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CRF plasma 等離子清洗機

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使用CRF_品牌等離子設備氟化可以提高環(huán)氧樹脂的電荷消散能力

使用CRF_品牌等離子設備氟化可以提高環(huán)氧樹脂的電荷消散能力:
       對改性環(huán)氧樹脂而言,由于填料的引入以及環(huán)氧自身的非飽和鍵和支鏈結構較多,環(huán)氧樹脂中不可避免地會出現(xiàn)陷阱。大粒徑聚合物中的陷阱密度也很大,等離子體設備氟化會使填料的粒徑變小,所以未氟化填料樣品中的陷阱密度很大。當電子被能級較淺的陷阱捕獲時,隨著外部激勵的作用,電子會脫落,參與沿閃絡的發(fā)展。被能級深的捕集器捕獲后,電子不易脫落,不能參與閃絡的發(fā)展,因此抑制了沿閃絡進一步發(fā)展,提高樣品的閃絡電壓。

等離子設備

       根據(jù)捕集層的大小,氟化時間由10分鐘增加到45分鐘,可以顯著地降低(低),而深度陷陷井隨氟化時間的延長,沿表面閃絡電壓逐漸升高(升高)。當填料氟化時間增加到60分鐘時,樣品中重新出現(xiàn)大量淺陷阱,電子容易脫落,因此閃絡電壓有降低(低)的趨勢。
        另外,由于氟的化學性質(zhì)比較活躍,XPS和FTIR測試表明填料和環(huán)氧樹脂中均含有氟。隨著等離子體對填料的氟化,氟容易與環(huán)氧樹脂中的基團發(fā)生反應,填料與聚合物基體緊密結合。粒徑較小的填料在基體中分散性較好,填料之間的交互區(qū)域容易重疊,從而降低(降低)了填料的禁帶寬度,增加了材料中電荷的消散途徑,抑制了表面電荷的積累。CRF_品牌等離子設備較低的初始表面電荷也降低了樣品表面電場的畸變(減少),抑制了表面的微小放電,提高了樣品的閃絡電壓。

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