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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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在真空室引入等離子體刻蝕機(jī)時(shí),氣體要保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定

在真空室引入等離子體刻蝕機(jī)時(shí),氣體要保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定:
        將等離子體刻蝕機(jī)中引入真空,將氣體導(dǎo)入真空室,保持腔內(nèi)壓力穩(wěn)定。依據(jù)清潔材料的不同,可采用氧、氬、氫、氮、氟等多種氣體分貝。將高頻率電壓置于真空室的電極與接地裝置之間,使氣體被擊穿,并經(jīng)電弧放電后形成等離子化,形成等離子體。使被處理工件在真空室內(nèi)所形成的等離子體完全覆蓋并開(kāi)始清洗操作,一般的清洗處理可持續(xù)數(shù)十秒至數(shù)十分鐘。清潔結(jié)束后,斷開(kāi)電源,用真空泵吸氣及氣化污垢排出。

等離子體刻蝕機(jī)

        等離子體刻蝕機(jī)的另一項(xiàng)功能是清洗完畢后,其表面已經(jīng)完全干透。對(duì)物體表面進(jìn)行化學(xué)刻蝕處理后,往往會(huì)形成許多新的活性基團(tuán),使物體表面發(fā)生“活(化)”并改變其性能,可極大地提高物體表面的滲透性和粘附性,這對(duì)于很多材料來(lái)說(shuō)非常重要。所以等離子體清洗具有很多用溶劑進(jìn)行的濕式清洗無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn)。相對(duì)于濕法清洗而言,等離子體刻蝕機(jī)的優(yōu)點(diǎn)主要有以下幾點(diǎn):
       經(jīng)等離子體刻蝕機(jī)清洗后,被清潔的物體已非常干燥,無(wú)需再次進(jìn)行干燥處理即可送到下道工序。無(wú)三氯乙烷等有害污染物,是一種有利于環(huán)境保護(hù)的綠色清潔方式,使用電磁波范疇高頻率形成的等離子體有別于激光等直射光線,其指向性不強(qiáng),因而能深入到物體內(nèi)部,完成清理工作,從而完成清理工作,因此,無(wú)需過(guò)分考慮被清潔物體形狀的影響。清潔效果(果)對(duì)于這些難洗部位的清潔效果較好,與氟利昂清潔的效(果)相當(dāng)。該清洗流程可在數(shù)分鐘內(nèi)完成,具有較高的產(chǎn)率。

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